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音讯称三星 、SK 海力士推动移动内存堆叠封装技能量产 ,满意端侧 AI 需求

IT之家 4 月 9 日音訊 ,音訊意端據韓媒 ETNews 報導,稱星存堆產滿側三星電子和 SK 海力士都在推動移動 DRAM 堆疊封裝技能的海力使用,該技能可進步移動設備的士推內存帶寬。

端側 AI 是動移動內疊封現在智能手機 、筆記本等產品商場的裝技熱門話題 ,而完成端側運轉模型需求更強壯的音訊意端移動 DRAM 功能。堆疊芯片作為一種在 HBM 內存上卓有成效的稱星存堆產滿側戰略被歸入考慮。

但是海力 ,以 LPDDR 為代表的士推移動 DRAM 芯片較小 ,不適合與 HBM 相同的動移動內疊封 TSV(IT之家注 :硅通孔)銜接方案;一起 HBM 制作工藝的高成本低良率特性也不能滿意高產能移動 DRAM 的需求。

因而三星電子 、裝技SK 海力士選用了另一種先進封裝方法來完成移動 DRAM 芯片堆疊,音訊意端也便是稱星存堆產滿側筆直布線扇出技能 VFO,該技能可提供更多的海力 IO 數據引腳 。

SK 海力士方面表明 VFO 技能將 FOWLP 和 DRAM 堆疊兩項技能結合 ,經過筆直銜接大幅縮短了電信號在多層 DRAM 間的傳輸途徑,一起能效也有提高。

圖片 1

▲ 圖源 SK 海力士官網 。

SK 海力士給出的數據顯現 ,其去年中的 VFO 技能驗證樣品在導線長度上僅有傳統布線產品的不到 1/4 ,能效也提高了 4.9% 。盡管該方案帶來了額定 1.4% 的散熱量  ,但封裝厚度減少了 27% 。

依據 ETNews 的說法 ,三星方面選用相似技能的產品是 LLW DRAM。LLW DRAM 可完成低推遲和 128GB/s的高帶寬功能 ,一起能耗也僅有 1.2 pJ / b 。

選用 VFO 技能的產品有望成為繼 HBM 后的下一個 AI 內存熱門。報導稱三星方案于下一年下半年完成 LLW DRAM 的量產;而 SK 海力士相關產品現在已在量產預備階段 。

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